光刻机能进口了（小心光刻机能进口了）
光刻机巨头AL
台积电事件过后，由于光刻机的稀缺性和高工艺要求，光刻机一直是国产替代最难啃的硬骨头。
不过，最近光刻机巨头荷兰阿斯麦（AL）首席财务官表示，根据当前法规，AL（阿斯麦）无需获得美国出口许可证便可以继续向中国客户出货DUV光刻系统。
要知道在芯片制造领域有两大巨头，一个是台积电，一个AL。
其中台积电掌握着全球最先进的芯片生产加工技术，7nm芯片数量已超过10亿颗，5nm芯片产能也早已经被苹果和高通给排满。
而AL公司则掌握着全球最先进的光刻机生产技术，想要生产高端的半导体芯片就必须要有AL公司的高端EUV光刻机才行！
所以，AL是非常赚钱的，今年第三季度销售额为39.58亿欧元，净利润11亿欧元（约合86.8亿元人民币），毛利率达47.5%。
第三季度的新增订单金额为29亿欧元，AL根本不担心产品卖不出去，需要担心的是产能供不上需求。那为什么还要想尽办法把产品卖给中国呢？
两种光刻机
乍一看这则消息，还以为美国说话不好使了，AL要绕过美国把光刻机卖给中国呢。仔细看，就会发现其中的猫腻。
AL生产了两种光刻机，一种是高端的EUV光刻机，一种是低端的DUV光刻机。这两种光刻机可是有着天壤之别的。
EUV光刻机是目前全球唯一可以满足22nm以下制程芯片生产的设备，其中10nm及以下的芯片制造，EUV光刻机必不可缺。
一台EUV光刻机的售价为1.48亿欧元，折合人民币高达11.74亿元。国内仍然一台难求，主要供应给英特尔、台积电和三星这三家大客户。
DUV光刻机基本上只能做到25nm，价格也便宜不少，目前的售价约6亿元。
要是想达到7nm的制造要求需要反复进行多次曝光。所以制造成本非常高，生产效率却非常低，良品率也较难保证。
国产替代更危险了？
暂时来看，是解了中国的燃眉之急，毕竟中芯国际正在实施的N+1工艺，也是建立在自己所拥有的DUV光刻机产品之上的。
但是长远来看，如果我们一直用国外的低端光刻机，我们自己研发的国产光刻机企业就没有了市场。
国产光刻机企业赚不到钱，就无法生存下去，那就更别提去研发高端光刻机了。
高端的EUV光刻机，既能降低生产成本，也能保证良品率。如果中芯国际依赖低端的DUV光刻机，不仅成本高，产品质量提升的速度也可能受限。
所以说，这次的光刻机能进口不能解决我们的问题，还有可能拖垮国内的光刻机企业，增加高端芯片的成本，降低产品的提升的速度。
醒醒吧！所谓，工欲善其事必先利其器，只有脚踏实地地投入、研究才会是根本的解决办法。
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